玻璃的離子鍍膜法

新聞發(fā)布時(shí)間：2013-10-10新聞瀏覽次數(shù)：2716新聞作者：錦泰特種玻璃

玻璃的離子鍍膜法實(shí)質(zhì)上是將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合的方法。其與蒸發(fā)法的相似處在于成膜物質(zhì)作為蒸發(fā)源在熱源的作用下蒸發(fā)逸出。與濺射法的 相似處在于成膜物質(zhì)與玻璃基體之間存在著強(qiáng)大當(dāng)場(chǎng)，使氣體發(fā)生輝光放電而產(chǎn)生等離子。與二者的不同之處在于用等離子體撞擊的是已經(jīng)蒸發(fā)出的成膜物質(zhì)原子或分子，使其發(fā)生電離，從而使成膜物質(zhì)以離子狀態(tài)加速轉(zhuǎn)移到玻璃基體上。
在一密閉的充有惰性氣體（如氬氣）的真空鍍膜室中，成膜物質(zhì)蒸發(fā)源放在下部的坩堝中，用電阻，電子槍或高頻加熱，使成膜物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)源坩堝裝在下部的陽(yáng)極上，而玻璃片裝在鍍膜室上部的陰極上。鍍膜室真空度為10-2～10-3Pa，陰極負(fù)電壓為-1000～-5000V。鍍膜開始前為了清潔玻璃表面，增強(qiáng)膜的附著力，先在陰極通負(fù)電壓，使電離的氬氣體等離子轟擊玻璃表面，進(jìn)行濺射清洗，然后再鍍膜。鍍膜時(shí)使成膜物質(zhì)原子蒸發(fā)進(jìn)入氣體等離子場(chǎng)，并受到等離子體撞擊而電離成離子狀態(tài)。此成膜物質(zhì)離子在電場(chǎng)中被加速。根據(jù)所加電壓的不同，離子加速的能量可達(dá)1～1000eV，然后沉積在安裝于陰極的玻璃基體上，形成薄膜。
同陰極濺射法一樣，離子鍍膜法可以鍍各種膜。金屬膜如，金、銀、銅等。氧化物膜如二氧化鈦膜，二氧化硅膜等。還有氟化物膜，硫化物膜，氮化物膜，硼化物膜及其混合物膜。此法也可鍍單層膜和多層膜。其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)如下：
(a) 等離子轟擊清潔玻璃表面，使膜與玻璃的附著力增強(qiáng)，膜層不易脫落；
(b) 膜層的致密度高，甚至與成膜物質(zhì)本身的密度相同；
(c) 繞鍍性能好。玻璃制品背面也能鍍上。對(duì)形狀復(fù)雜的玻璃制品，能產(chǎn)生相對(duì)均勻的鍍層。適合于玻璃工藝品。而陰極濺射法則一般適宜于平板玻璃；
(d) 成膜物質(zhì)蒸發(fā)電離后被電場(chǎng)加速，沉積速度快，鍍膜效率高。沉積速度可達(dá)1～50µm/min。而一般陰極濺射法速度只有0.01～1µm/min。